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二氧化硅懸浮研磨拋光液

機械/化學拋光，液態氧化硅懸浮液，PH9.5用于高純度金屬及合金、礦物、陶瓷、聚合物的最終拋光。

用法：直接使用用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學玻璃等產品的高光潔度表面的研磨及拋光。

0.04μm

500ml

機械/化學拋光，液態氧化硅懸浮液，PH10用于所有材料快速最終拋光。

用法：直接使用用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學玻璃等產品的高光潔度表面的研磨及拋光。用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學玻璃等產品的高光潔度表面的研磨及拋光。

0.02μm

500ml

機械/化學拋光，膠狀硅懸浮液，PH10     

用于高精要求產品的最終拋光。

用法：使用時按1:3加水稀釋或水性潤滑液

0.04μm

500ml

0.02μm

500ml